टंगस्टन लक्ष्य
उत्पाद पैरामीटर
| प्रोडक्ट का नाम | टंगस्टन (डब्ल्यू) स्पटरिंग लक्ष्य |
| श्रेणी | W1 |
| उपलब्ध शुद्धता(%) | 99.5%,99.8%,99.9%,99.95%,99.99% |
| आकार: | प्लेट, गोल, रोटरी, पाइप/ट्यूब |
| विनिर्देश | जैसा कि ग्राहक मांग करते हैं |
| मानक | एएसटीएम बी760-07, जीबी/टी 3875-06 |
| घनत्व | ≥19.3 ग्राम/सेमी3 |
| गलनांक | 3410°C |
| परमाणु आयतन | 9.53 सेमी3/मोल |
| प्रतिरोध का तापमान गुणांक | 0.00482 आई/℃ |
| ऊर्ध्वपातन ताप | 847.8 केजे/मोल(25℃) |
| पिघलने की गुप्त ऊष्मा | 40.13±6.67kJ/mol |
| राज्य | तलीय टंगस्टन लक्ष्य, घूमने वाला टंगस्टन लक्ष्य, गोल टंगस्टन लक्ष्य |
| सतही अवस्था | पॉलिश या क्षार से धोएं |
| कारीगरी | टंगस्टन बिलेट (कच्चा माल)- टेस्ट- हॉट रोलिंग-लेवलिंग और एनीलिंग-अल्कली वॉश-पोलिश-टेस्ट-पैकिंग |
छिड़काव और सिंटरयुक्त टंगस्टन लक्ष्य में 99% घनत्व या उससे अधिक की विशेषताएं हैं, औसत पारदर्शी बनावट व्यास 100um या उससे कम है, ऑक्सीजन सामग्री 20ppm या उससे कम है, और विक्षेपण बल लगभग 500Mpa है;यह असंसाधित धातु पाउडर के उत्पादन में सुधार करता है, सिंटरिंग क्षमता में सुधार करने के लिए, टंगस्टन लक्ष्य की लागत को कम कीमत पर स्थिर किया जा सकता है।सिंटर्ड टंगस्टन लक्ष्य में उच्च घनत्व होता है, इसमें उच्च स्तरीय पारदर्शी फ्रेम होता है जिसे पारंपरिक दबाव और सिंटरिंग विधि द्वारा प्राप्त नहीं किया जा सकता है, और विक्षेपण कोण में काफी सुधार होता है, जिससे कण पदार्थ काफी कम हो जाते हैं।
फ़ायदा
(1) छिद्र, खरोंच और अन्य अपूर्णता के बिना चिकनी सतह
(2) पीसने या लैथिंग की धार, कोई काटने का निशान नहीं
(3) भौतिक शुद्धता की अपराजेय लेरेल
(4) उच्च लचीलापन
(5) सजातीय सूक्ष्म संरचना
(6) नाम, ब्रांड, शुद्धता आकार आदि के साथ आपके विशेष आइटम के लिए लेजर मार्किंग
(7) पाउडर सामग्री आइटम और संख्या, मिश्रण श्रमिकों, आउटगैस और एचआईपी समय, मशीनिंग व्यक्ति और पैकिंग विवरण से स्पटरिंग लक्ष्य के प्रत्येक पीसी सभी स्वयं बनाए जाते हैं।
एक बार नया स्पटरिंग लक्ष्य या विधि बन जाने के बाद ये सभी कदम आपको वादा कर सकते हैं, इसे स्थिर गुणवत्ता वाले उत्पादों का समर्थन करने के लिए कॉपी और रखा जा सकता है।
अन्य लाभ
उच्च गुणवत्ता वाली सामग्री
(1) 100% घनत्व = 19.35 ग्राम/सेमी³
(2) आयामी स्थिरता
(3) उन्नत यांत्रिक गुण
(4) समान अनाज आकार वितरण
(5) छोटे दाने का आकार
APPALACHIAN
टंगस्टन लक्ष्य सामग्री का उपयोग मुख्य रूप से एयरोस्पेस, दुर्लभ पृथ्वी गलाने, विद्युत प्रकाश स्रोत, रासायनिक उपकरण, चिकित्सा उपकरण, धातुकर्म मशीनरी, गलाने के उपकरण, पेट्रोलियम और अन्य क्षेत्रों में किया जाता है।
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