कोटिंग फैक्ट्री आपूर्तिकर्ता के लिए उच्च शुद्ध 99.8% टाइटेनियम ग्रेड 7 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य टीआई मिश्र धातु लक्ष्य
उत्पाद पैरामीटर
| प्रोडक्ट का नाम | पीवीडी कोटिंग मशीन के लिए टाइटेनियम लक्ष्य |
| श्रेणी | टाइटेनियम (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12)मिश्र धातु लक्ष्य: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr आदि |
| मूल | बाओजी शहर शानक्सी प्रांत चीन |
| टाइटेनियम सामग्री | ≥99.5 (%) |
| अशुद्धता सामग्री | <0.02 (%) |
| घनत्व | 4.51 या 4.50 ग्राम/सेमी3 |
| मानक | एएसटीएम बी381;एएसटीएम एफ67, एएसटीएम एफ136 |
| आकार | 1. गोल लक्ष्य: Ø30--2000 मिमी, मोटाई 3.0 मिमी--300 मिमी;2. प्लेट लक्ष्य: लंबाई: 200-500 मिमी चौड़ाई: 100-230 मिमी मोटाई: 3--40 मिमी;3. ट्यूब लक्ष्य: व्यास: 30-200 मिमी मोटाई: 5-20 मिमी लंबाई: 500-2000 मिमी;4. अनुकूलित उपलब्ध है |
| तकनीक | जाली और सीएनसी मशीनीकृत |
| आवेदन | सेमीकंडक्टर पृथक्करण, फिल्म कोटिंग सामग्री, भंडारण इलेक्ट्रोड कोटिंग, स्पटरिंग कोटिंग, सतह कोटिंग, ग्लास कोटिंग उद्योग। |
टाइटेनियम लक्ष्य की रासायनिक आवश्यकताएँ
| एएसटीएम बी265 | जीबी/टी 3620.1 | जेआईएस एच4600 | मौलिक सामग्री(≤wt%) | ||||||
| N | C | H | Fe | O | अन्य | ||||
| टाइटेनियम शुद्ध | ग्रेड 1 | TA1 | वर्ग 1 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.20 | 0.18 | / |
| ग्रेड 2 | TA2 | कक्षा 2 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | |
| टाइटेनियममिश्र धातु | ग्रेड 5 | टीसी4ती-6AL-4V | कक्षा60 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.40 | 0.2 | अल:5.5-6.75 वी:3.5-4.5 |
| ग्रेड 7 | TA9 | कक्षा12 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | पीडी:0.12-0.25 | |
| ग्रेड 12 | TA10 | कक्षा60ई | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | मो:0.2-0.4 नी:0.6-0.9 | |
कमरे के तापमान पर अनुदैर्ध्य यांत्रिक गुण
| श्रेणी | तन्यता ताकतआरएम/एमपीए(>=) | नम्य होने की क्षमताआरपी0.2(एमपीए) | बढ़ावA4D(%) | क्षेत्र का घटावजेड(%) |
| ग्रेड1 | 240 | 140 | 24 | 30 |
| Gr2 | 400 | 275 | 20 | 30 |
| Gr5 | 895 | 825 | 10 | 25 |
| Gr7 | 370 | 250 | 20 | 25 |
| ग्रेड12 | 485 | 345 | 18 | 25 |
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य का सामान्य आकार: Φ100*40, Φ98*40, Φ95*45, Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 आदि।
ग्राहक के अनुरोध या चित्र के अनुसार भी अनुकूलित किया जा सकता है
लक्ष्य आवश्यकताएँ: उच्च शुद्धता, समान क्रिस्टल अनाज, और अच्छी सघनता।
शुद्धता: 99.5%, 99.95%, 99.98%, 99.995%।
टाइटेनियम लक्ष्य उत्पादन प्रक्रिया
टाइटेनियम स्पंज --- टाइटेनियम पिंड को गलाना --- परीक्षण --- पिंड को काटना --- फोर्जिंग --- रोलिंग --- छीलना --- सीधा करना --- अल्ट्रासोनिक दोष का पता लगाना --- पैकिंग
टाइटेनियम लक्ष्य सुविधाएँ
1. कम घनत्व और उच्च विशिष्टता शक्ति
2. उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध
3. गर्मी के प्रभाव के प्रति अच्छा प्रतिरोध
4. क्रायोजेनिक्स संपत्ति के लिए उत्कृष्ट असर
5. अचुंबकीय और गैर विषैला
6. अच्छे तापीय गुण
7. लोच का निम्न मापांक
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