टंगस्टन लक्ष्य
उत्पाद पैरामीटर
| प्रोडक्ट का नाम | टंगस्टन(W) स्पटरिंग लक्ष्य |
| श्रेणी | W1 |
| उपलब्ध शुद्धता (%) | 99.5%, 99.8%, 99.9%, 99.95%, 99.99% |
| आकार: | प्लेट, गोल, घूर्णनशील, पाइप/ट्यूब |
| विनिर्देश | ग्राहकों की मांग के अनुसार |
| मानक | एएसटीएम बी760-07, जीबी/टी 3875-06 |
| घनत्व | ≥19.3 ग्राम/सेमी3 |
| गलनांक | 3410 डिग्री सेल्सियस |
| परमाणु आयतन | 9.53 cm³/mol |
| प्रतिरोध का तापमान गुणांक | 0.00482 I/℃ |
| ऊर्ध्वपातन ऊष्मा | 847.8 kJ/mol(25℃) |
| गलनांक की गुप्त ऊष्मा | 40.13±6.67kJ/mol |
| राज्य | समतल टंगस्टन लक्ष्य, घूर्णनशील टंगस्टन लक्ष्य, गोल टंगस्टन लक्ष्य |
| सतही अवस्था | पॉलिश या क्षार धुलाई |
| कारीगरी | टंगस्टन बिलेट (कच्चा माल) - परीक्षण - हॉट रोलिंग - लेवलिंग और एनीलिंग - क्षार धुलाई - पॉलिश - परीक्षण - पैकिंग |
स्प्रे और सिंटर्ड टंगस्टन टारगेट की विशेषताएँ 99% या उससे अधिक घनत्व, औसत पारदर्शी बनावट का व्यास 100um या उससे कम, ऑक्सीजन की मात्रा 20ppm या उससे कम और विक्षेपण बल लगभग 500Mpa हैं; यह असंसाधित धातु पाउडर के उत्पादन में सुधार करता है और सिंटरिंग क्षमता को बढ़ाता है, जिससे टंगस्टन टारगेट की लागत कम रहती है। सिंटर्ड टंगस्टन टारगेट का घनत्व अधिक होता है, इसमें उच्च-स्तरीय पारदर्शी फ्रेम होता है जो पारंपरिक प्रेसिंग और सिंटरिंग विधि से प्राप्त नहीं किया जा सकता है, और विक्षेपण कोण में उल्लेखनीय सुधार होता है, जिससे कण पदार्थ काफी कम हो जाते हैं।
फ़ायदा
(1) छिद्र, खरोंच और अन्य खामियों से रहित चिकनी सतह
(2) ग्राइंडिंग या लेथिंग एज, कोई कटिंग मार्क्स नहीं
(3) भौतिक शुद्धता का बेजोड़ स्तर
(4) उच्च तन्यता
(5) समरूप सूक्ष्म ट्रुकल्चर
(6) आपके विशेष उत्पाद पर नाम, ब्रांड, शुद्धता, आकार आदि के साथ लेजर मार्किंग।
(7) पाउडर सामग्री आइटम और संख्या, मिश्रण कार्यकर्ता, आउटगैस और एचआईपी समय, मशीनिंग व्यक्ति और पैकिंग विवरण से स्पटरिंग लक्ष्यों के प्रत्येक पीस को हम स्वयं बनाते हैं।
इन सभी चरणों से यह सुनिश्चित किया जा सकता है कि एक बार जब कोई नया स्पटरिंग लक्ष्य या विधि बन जाती है, तो उसे कॉपी करके रखा जा सकता है ताकि स्थिर गुणवत्ता वाले उत्पादों का उत्पादन जारी रखा जा सके।
अन्य लाभ
उच्च गुणवत्ता वाली सामग्री
(1) 100% घनत्व = 19.35 ग्राम/सेमी³
(2) आयामी स्थिरता
(3) उन्नत यांत्रिक गुण
(4) एकसमान कण आकार वितरण
(5) छोटे अनाज के आकार
APPALACHIAN
टंगस्टन लक्ष्य सामग्री का उपयोग मुख्य रूप से एयरोस्पेस, दुर्लभ पृथ्वी धातु गलाने, विद्युत प्रकाश स्रोत, रासायनिक उपकरण, चिकित्सा उपकरण, धातुकर्म मशीनरी, गलाने के उपकरण, पेट्रोलियम और अन्य क्षेत्रों में किया जाता है।
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