एचएसजी हाई टेम्परेचर वायर, 99.95% शुद्धता वाला टैंटलम वायर, प्रति किलोग्राम कीमत
उत्पाद पैरामीटर
| प्रोडक्ट का नाम | टैंटलम तार | |||
| पवित्रता | 99.95% न्यूनतम | |||
| श्रेणी | Ta1, Ta2, TaNb3, TaNb20, Ta-10W, Ta-2.5W, R05200, R05400, R05255, R05252, R05240 | |||
| मानक | एएसटीएम बी708, जीबी/टी 3629 | |||
| आकार | वस्तु | मोटाई (मिमी) | चौड़ाई (मिमी) | लंबाई (मिमी) |
| पन्नी | 0.01-0.09 | 30-150 | >200 | |
| चादर | 0.1-0.5 | 30-609.6 | 30-1000 | |
| थाली | 0.5-10 | 20-1000 | 50-2000 | |
| तार | व्यास: 0.05~ 3.0 मिमी * लंबाई | |||
| स्थिति | ♦ गरमागरम रोल किया हुआ/ठंडा रोल किया हुआ ♦ जाली ♦ क्षारीय सफाई ♦ इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिश ♦ मशीनिंग ♦ पीसना ♦ तनाव से राहत देने वाली एनीलिंग | |||
| विशेषता | 1. अच्छी तन्यता, अच्छी मशीनेबिलिटी | |||
| आवेदन | 1. इलेक्ट्रॉनिक उपकरण | |||
व्यास और सहनशीलता
| व्यास/मिमी | φ0.20~φ0.25 | φ0.25~φ0.30 | φ0.30~φ1.0 |
| सहनशीलता/मिमी | ±0.006 | ±0.007 | ±0.008 |
यांत्रिक गुण
| राज्य | तन्यता सामर्थ्य (एमपीए) | विस्तार दर (%) |
| हल्का | 300~750 | 1~30 |
| सेमीहार्ड | 750~1250 | 1~6 |
| मुश्किल | >1250 | 1~5 |
रासायनिक संरचना
| श्रेणी | रासायनिक संघटन (%) | |||||||||||
| C | N | O | H | Fe | Si | Ni | Ti | Mo | W | Nb | Ta | |
| ता1 | 0.01 | 0.005 | 0.015 | 0.0015 | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.05 | संतुलन |
| ता2 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 0.1 | संतुलन |
| TaNb3 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 1.5~3.5 | संतुलन |
| TaNb20 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.02 | 0.04 | 17~23 | संतुलन |
| TaNb40 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.05 | 35~42 | संतुलन |
| TaW2.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 2.0~3.5 | 0.5 | संतुलन |
| TaW7.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 6.5~8.5 | 0.5 | संतुलन |
| TaW10 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 9.0~11 | 0.1 | संतुलन |
आवेदन
1. इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में टैंटलम तार का सबसे अधिक उपयोग होता है और यह मुख्य रूप से टैंटलम इलेक्ट्रोलाइटिक कैपेसिटर के एनोड लीड के लिए उपयोग किया जाता है। टैंटलम कैपेसिटर सर्वोत्तम कैपेसिटर होते हैं, और विश्व के लगभग 65% टैंटलम का उपयोग इसी क्षेत्र में होता है।
2. मांसपेशियों के ऊतकों की कमी को पूरा करने और नसों और टेंडन को सिलने के लिए टैंटलम तार का उपयोग किया जा सकता है।
3. टैंटलम तार का उपयोग वैक्यूम उच्च-तापमान भट्टी के भागों को गर्म करने के लिए किया जा सकता है।
4. उच्च ऑक्सीकरण-रोधी भंगुर टैंटलम तार का उपयोग टैंटलम फ़ॉइल संधारित्र बनाने के लिए भी किया जा सकता है। यह पोटेशियम डाइक्रोमेट में उच्च तापमान (100 ℃) और अत्यंत उच्च फ्लैश वोल्टेज (350V) पर कार्य कर सकता है।
5. इसके अतिरिक्त, टैंटलम तार का उपयोग वैक्यूम इलेक्ट्रॉन कैथोड उत्सर्जन स्रोत, आयन स्पटरिंग और स्प्रे कोटिंग सामग्री के रूप में भी किया जा सकता है।
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रासायनिक संरचना Mo ≥99.95% Fe <0.005% Ni <0.003% Cu <0.001% Al <0.001% Si <0.002% Ca <0.002% K <0.005% Na <0.001% Mg <0.001% Mn <0.001% W <0.015% Pb <0.0005% Bi <0.0005% Sn <0.0005% Sb <0.001% Cd <0.0005% P <0.001% S <0.002% C <0.005% O 0.03~0.2% उद्देश्य: उच्च शुद्धता वाले मोलिब्डेनम का उपयोग मैमोग्राफी, सेमीकंडक्टर आदि में किया जाता है।
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